真空等離子設(shè)備采用PLC 觸摸屏控制系統(tǒng)，精確的控制設(shè)備運行。保養(yǎng)維修成本低，便于客戶成本控制。真空等離子設(shè)備高精度，快響應(yīng)，良好的操控性和兼容性，完善的功能和專業(yè)的技術(shù)支持。真空等離子設(shè)備主要適用于生物醫(yī)療行業(yè)，印制線路板行業(yè)，半導(dǎo)體IC領(lǐng)域，硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域，汽車電子行業(yè)，航空工業(yè)等。
真空等離子設(shè)備具有清洗功能外，在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能，在清洗過程中，真空等離子設(shè)備的輝光放電可以加強這些材料的粘附性、相容性和浸潤性。真空等離子設(shè)備是一種小型化、非破壞性的清洗設(shè)備。真空等離子設(shè)備采用低氣壓激發(fā)等離子體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。
真空等離子設(shè)備可去除金屬表面的油脂,油污等有機物及氧化層，還可用于汽車制造過程中的塑料和噴漆前處理。真空等離子設(shè)備可用于紡織品,濾網(wǎng)和薄膜的親水性,疏水性和表面改性處理，還可用于生物醫(yī)療培養(yǎng)皿提高活性，血管支架，注射器，導(dǎo)管和各種材料的親潤，交合涂覆前處理。
真空等離子設(shè)備可用于航空航天的絕緣材料，電子元件等表面涂覆前處理，還可用于線路板的清洗和蝕刻。膠片，PP等材料的無氧化和活化處理，改進可焊性。真空等離子設(shè)備可用于半導(dǎo)體行業(yè)中的晶圓加工及處理去除光刻膠，封裝前預(yù)處理，還可用于LED支架清洗封裝前預(yù)處理。
真空等離子設(shè)備廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、COG前、LCD、LCM及LED制程、器件封裝前、真空電子、連接器和繼電器以及太陽能光伏等行業(yè)的精密清洗，塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的清洗、刻蝕處理、灰化處理、表面活化以及生命科學(xué)實驗等領(lǐng)域。
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